| Моделирование плазмохимической технологии травления в ВЧ разряде |
|
 |
|
|
| Авторы |
| | Григорьев Ю.Н. |
| | Горобчук А.Г. |
| Год публикации |
| | 2012 |
| УДК |
| | 621.382:519.688 |
|
| Аннотация |
| | В рамках гидродинамического приближения моделируется технология плазмохимического травления кремния в ВЧ-разряде CF4/O2. Расчеты выполнены с использованием математической модели неизотермического реактора, в которой движение газовой смеси описывалось уравнениями многокомпонентной гидродинамики с учетом конвективно-диффузионного переноса отдельных компонент смеси. Для определения характеристик низкотемпературной плазмы использовалась гидродинамическая модель аксиально-симметричного ВЧ-разряда в трехмоментном приближении, включающая решение уравнений непрерывности для электронов и положительных ионов, уравнение баланса энергии электронов и уравнение Пуассона для электрического потенциала. Исследовано влияние структуры ВЧ-разряда и многокомпонентной плазменной кинетики на производство и массообмен активных частиц в плазмохимическом реакторе травления. |
| Ключевые слова |
| | плазмохимическое травление, плазмохимические реакторы, многокомпонентные смеси газов, математическое моделирование |
| Ссылка на статью |
| | Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Моделирование плазмохимической технологии травления в ВЧ разряде // Проблемы разработки перспективных микро- и наноэлектронных систем - 2012. Сборник трудов / под общ. ред. академика РАН А.Л. Стемпковского. М.: ИППМ РАН, 2012. С. 217-220. |
| Адрес статьи |
| | http://www.mes-conference.ru/data/year2012/pdf/D57.pdf |
