| Повышение равномерности распределения теплового поля при начальном размещении топологических ячеек ИС |
|
|
| Авторы |
| | Арутюнян А.Г. |
| Год публикации |
| | 2008 |
| УДК |
| | 621.38 |
|
| Аннотация |
| | В настоящей работе предложены критерий и соответствующий подход для начального размещения ячеек полупроводниковых интегральных схем
(ИС), обеспечивающие топологическую равномерность
распределения теплового поля и, тем самым, повышение тепловой надежности. Математический вид предлагаемого критерия начального размещения идентичен традиционным критериям электрической связанности элементов, что позволяет на этапе начального размещения применять аддитивный многопараметрический критерий совместного учета электрической связанности и теплового режима элементов ИС. |
| Ключевые слова |
| | тепловое поле, размещение топологических ячеек ИС |
| Ссылка на статью |
| | Арутюнян А.Г. Повышение равномерности распределения теплового поля при начальном размещении топологических ячеек ИС // Проблемы разработки перспективных микро- и наноэлектронных систем - 2008. Сборник научных трудов / под общ. ред. А.Л.Стемпковского. М.:ИППМ РАН, 2008. С. 251-254. |
| Адрес статьи |
| | http://www.mes-conference.ru/data/year2008/45.pdf |
