Главная         Авторы   Статьи   Год проведения   Тематика   Организации        Конференция МЭС

Исследование влияния LDE на выбор топологии стандартных ячеек по технологии 28 нм  

Авторы
 Медведева О.И.
 Семёнов М.Ю.
 Титов Ю.А.
Год публикации
 2021
DOI
 10.31114/2078-7707-2021-3-152-158
УДК
 

Аннотация
 Влияние эффектов, зависящих от топологии (LDE), на временные и мощностные характеристики стандартных ячеек становится важной проблемой в субмикронных технологиях. В данной статье исследованы различные параметры LDE: эффект близости кармана (WPE), эффект расстояния между кремниевыми затворами (PSE), эффект длины области диффузии (LOD), эффект расстояния между активными областями транзисторов (OSE). Для определения влияния параметров LDE на стандартные ячейки по технологии 28 нм был разработан набор тестовых топологий. Для определения изменений временных и мощностных характеристик были получены файлы с экстракцией из топологий. Кроме того, в библиотеку были добавлены дополнительные ячейки с той же функциональностью, но с измененной топологией, а также реализован логический синтез для тестового проекта. На основе результатов моделирования ячеек и логического синтеза тестового проекта был представлен набор рекомендаций по разработке топологий стандартных ячеек.
Ключевые слова
 эффекты, зависящие от топологии (LDE), эффект близости кармана (WPE), эффект расстояния между кремниевыми затворами (PSE), эффект длины области диффузии (LOD), эффект расстояния между активными областями транзисторов (OSE).
Ссылка на статью
 Медведева О.И., Семёнов М.Ю., Титов Ю.А. Исследование влияния LDE на выбор топологии стандартных ячеек по технологии 28 нм // Проблемы разработки перспективных микро- и наноэлектронных систем (МЭС). 2021. Выпуск 3. С. 152-158. doi:10.31114/2078-7707-2021-3-152-158
Адрес статьи
 http://www.mes-conference.ru/data/year2021/pdf/D049.pdf

Copyright © 2009-2024 ИППМ РАН. All Rights Reserved.

Разработка сайта - ИППМ РАН