| Ускорение решения задачи обнаружения близости полигонов в задачах технологии двойного шаблона |
|
 |
|
|
| Авторы |
| | Булах Д.А. |
| | Коршунов А.В. |
| Год публикации |
| | 2020 |
| DOI |
| | 10.31114/2078-7707-2020-3-41-48 |
| УДК |
| | 621.382: 621.3.049.77.001.2 |
|
| Аннотация |
| | Формирование топологических структур с размерами 22нм и ниже с использованием современного литографического оборудования требует применения ряда техник предварительной подготовки топологической информации, наиболее популярной из которых является технология двойного шаблона. При алгоритмической реализации этой технологии основной вычислительной проблемой является необходимость выполнять большое число сравнений расстояний между различными участками большого числа полигонов. В данной работе предлагается алгоритм сокращения вычислительных затрат, позволяющий обнаруживать только геометрические примитивы, находящиеся в заданной близости. |
| Ключевые слова |
| | СБИС, топология, двойной шаблон, двойное экспонирование, разреженные матрицы. |
| Ссылка на статью |
| | Булах Д.А., Коршунов А.В. Ускорение решения задачи обнаружения близости полигонов в задачах технологии двойного шаблона // Проблемы разработки перспективных микро- и наноэлектронных систем (МЭС). 2020. Выпуск 3. С. 41-48. doi:10.31114/2078-7707-2020-3-41-48 |
| Адрес статьи |
| | http://www.mes-conference.ru/data/year2020/pdf/D087.pdf |
